在鍍鎳槽中，對雜質(zhì)進行處理是保證鍍層質(zhì)量的重要手段。在電鍍過程中，光亮劑的分解以及雜質(zhì)的帶入幾乎是不可避免的，除要盡可能地保持溶液純凈，必須對鍍液進行定期的、系統(tǒng)的處理，不要等到故障出現(xiàn)，以致影響生產(chǎn)才進行雜質(zhì)的去除處理。

一般正確的處理方法是：

(1)用硫酸(10％)調(diào)整鍍液pH值為3，加溫至60℃(有利于氧化反應的進行)；

(2)加入高錳酸鉀至溶液呈紫色為止，攪拌60min，再用雙氧水退去紫絳色(氧化鐵2價至3價)；

(3)加入2～6g／L的碳酸鉛(或用堿式碳酸鉛和醋酸鉛)去鉻；

(4)用5％氫氧化鈉(或氫氧化鉀)調(diào)pH值為6．2(使金屬雜質(zhì)生成不溶物質(zhì)沉淀)；

(5)加活性炭(化學純)1～3g／L，并攪拌l～2h(吸附有機雜質(zhì))；

(6)靜置24h過濾；

(7)用瓦楞形陰極以0．25A／dm2的電流處理至獲得正常鍍層(除銅、鋅雜質(zhì))；

(8)用10％硫酸調(diào)pH值直至正常范圍，按工藝添加光亮劑。